Tez detayları

AlN katmanların fiziksel buhar biriktirme yöntemiyle üretimi ve karakterizasyonu = Production and characterization of AlN layers via physcal vapor deposition method

Yazarlar:

Satilmiş, Hasan

Yayıncı:

Afyon Kocatepe Üniversitesi

Ana Başlıklar:

Mühendislik ve uygulamalı operasyonlar

Belge Tipi:

Tezler

Program Tipi:

Yüksek Lisans

Yayın Tarihi:

12/2013

Belge Dili:

Türkçe

Document ID (Org No.):

2000112315

Anahtar sözcükler:

METALLURGICAL ENGINEERING

Özet

In this study it is aimed to fabricate Aluminum nitride (AlN) layers which have been widely used and have excellent physical and chemical properties, such as high thermal conductivity (100–260 W/m K)., wide band gap (6.2 eV) structure, high chemical stability, low thermal expansion and high surface aqustic velocity transmittance were facricated by RF magnetron sputtering technique that a type of physical vapor deposition. Furthermore, the thicknesses of films were measured, mineralogical datas were obtained by XRD method, and surface properties were examined by AFM. In the study AlN thin film layers were deposited on the glass substrates was using Aluminum targets by RF magnetron sputtering technique. AlN coating process performed for constant base pressure (2.10-2 mbar) constant working pressure (5.10-2 mbar), constant gas mixture rate (%50 Ar, %50 N2), and variable working power and deposition time. In the result, it was observed that the AlN deposition rate increased with increasing RF power. In addition the thicknesses and roughness of the films increased with the increasing RF power and deposition.

Yapılan bu tez çalışmasında; yüksek ısıl iletkenliği (285 W/(m•K), geniş bant aralığı (6.2 eV), yüksek kimyasal ve ısıl kararlılığı, düşük ısıl genleşmesi ve yüksek yüzey akustik dalga iletim hızı nedenleriyle günümüz teknolojisinde oldukça yaygın bir kullanım alanına sahip olan Alüminyum nitrür (AlN) katmanların fiziksel buhar biriktirme yöntemlerinden biri olan RF manyetik saçtırma yöntemi ile üretimi yapılmıştır. Ayrıca yapılan çalışmada üretilen AlN katmanların kalınlıkları ölçülmüş, üretim oranları hesaplanmış, X ışınları kırınımı XRD analizi ile minerolojik özellikleri incelenmiş, Atomik kuvvet mikroskobu (AFM) ile yüzey özellikleri tespit edilmiştir. Çalışmada Radyo frekans (RF) manyetik saçtırma yöntemi ile alüminyum hedef malzeme kullanarak cam altlık üzerine AlN ince filmler depolanmıştır. AlN ince filmlerin üretimi sabit vakum basıncı (2.10-2 mbar), sabit çalışma basıncı (5.10-2 mbar) ve sabit gaz karışımı oranında (%50 Ar, %50 N2) farklı sistem güçleri (W) ve farklı sürelerde reaktif saçtırma prensibi ile gerçekleştirilmiştir. Çalışmanın sonucunda sistem gücünün artmasıyla kaplama bünyesindeki AlN fazının Al fazına oranının arttığı gözlemlenmiştir. Ayrıca artan sistem çalışma gücü ve kaplama süresi ile birlikte kaplama kalınlıklarının ve yüzey pürüzlülüğünün arttığı görülmüştür.

Tez detayları

AlN katmanların fiziksel buhar biriktirme yöntemiyle üretimi ve karakterizasyonu = Production and characterization of AlN layers via physcal vapor deposition method

Yazarlar: Satilmiş, Hasan

Yayıncı: Afyon Kocatepe Üniversitesi

Ana Başlıklar: Mühendislik ve uygulamalı operasyonlar

Belge Tipi: Tezler

Program Tipi: Yüksek Lisans

Yayın Tarihi: 12/2013

Belge Dili: Türkçe

Document ID (Org No.): 2000112315